TSMC می گوید یک ابزار پیشرفته ASML برای تولید تراشه در سال 2024 خواهد داشت

مدیران شرکت تایوان Semiconductor Manufacturing روز پنجشنبه گفتند که بزرگترین سازنده تراشه جهان نسخه بعدی ابزار پیشرفته ساخت تراشه ASML Holding NV را در سال 2024 خواهد داشت.

این ابزار که “high-NA EUV” نام دارد، پرتوهای نور متمرکزی را تولید می کند که مدارهای میکروسکوپی تراشه های کامپیوتری مورد استفاده در تلفن ها، لپ تاپ ها، خودروها و دستگاه های هوش مصنوعی مانند بلندگوهای هوشمند را ایجاد می کند. EUV مخفف نور فرابنفش شدید، طول موج نوری است که توسط پیشرفته ترین ماشین های ASML استفاده می شود.

YJ Mii، معاون ارشد تحقیق و توسعه، در طول سمپوزیوم فناوری در TSMC در سیلیکون ولی، گفت: «TSMC اسکنرهای EUV high-NA را در سال 2024 معرفی خواهد کرد تا زیرساخت‌های مرتبط و راه حل مدل‌سازی را که مشتریان برای تقویت نوآوری نیاز دارند، معرفی کند.

Mii نگفت که این دستگاه، نسل دوم ابزارهای لیتوگرافی فرابنفش شدید برای تولید تراشه‌های کوچکتر و سریع‌تر، چه زمانی برای تولید انبوه استفاده خواهد شد. رقیب TSMC اینتل گفته است که تا سال 2025 از این دستگاه ها در تولید استفاده خواهد کرد و اولین دستگاهی خواهد بود که دستگاه را دریافت می کند.

همانطور که اینتل وارد تجارت ساخت تراشه های طراحی شده توسط شرکت های دیگر می شود، برای این مشتریان با TSMC رقابت خواهد کرد.

کوین ژانگ، معاون ارشد توسعه تجارت TSMC، تصریح کرد که TSMC با ابزار جدید EUV high-NA EUV در سال 2024 آماده تولید نخواهد بود، اما بیشتر برای تحقیقات با شرکا مورد استفاده قرار خواهد گرفت.

دن هاچسون، اقتصاددان تراشه TechInsights، که در سمپوزیوم حضور داشت، گفت: «اهمیت داشتن TSMC در سال 2024 به این معنی است که آنها سریعتر به لبه برتر می رسند.

هاچسون گفت: «High-NA EUV نوآوری بزرگ بعدی در فناوری است که فناوری تراشه را در خط مقدم قرار می دهد.

روز پنجشنبه، TSMC همچنین جزئیات بیشتری در مورد فناوری تراشه‌های 2 نانومتری خود ارائه کرد که گفت در مسیر شروع تولید انبوه آن در سال 2025 هستند. TSMC گفت که 15 سال را صرف توسعه فناوری ترانزیستور به اصطلاح “نانوشت” برای بهبود سرعت و انرژی کرده است. راندمان است و برای اولین بار از آن در تراشه های 2 نانومتری خود استفاده خواهد کرد.

© تامسون رویترز 2022